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OLED有機發光二極體顯示器技術

出版日期
2023/05/15
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PDF
書籍分類
學科分類
ISBN
9786263284173

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1. 有機發光二極體顯示器具備自發光特性、敏捷的反應速度、低耗電量、清晰對比、面板厚度薄、重量輕並具備可撓性等優勢,被喻為完美的顯示器。
2. 本書藉由淺顯易懂的辭句,將有機發光二極體顯示器之開發歷史、發光原理、面板設計與未來趨勢呈現給讀者,內容詳細豐富。
 
有機發光二極體顯示器具備自發光特性、敏捷的反應速度、寬廣的可視範圍、低的耗電量、清晰的對比、面板厚度薄、重量輕並具備可撓曲等優勢,被喻為完美的顯示器。本書藉由淺顯易懂的辭句將有機發光二極體顯示器之開發歷史、發光原理、面板設計與未來趨勢呈現給讀者。內容包括:有機發光二極體應用與規格、有機發光二極體顯示原理及全彩技術、被動式矩陣背板技術、主動式矩陣背板技術、有機發光二極體陽極製程、有機發光二極體陰極製程、主動式類比畫素設計、主動式數位畫素設計、有機發光二極體封裝技術、有機發光二極體技術藍圖等。本書適用於科大電子、電機、光電系「LED技術與應用」課程。
  • 第1章 緒論-顯示未來
    • 1.1 前言
    • 1.2 平面顯示世代
      • 1.2.1 平面陰極射線管電視的開發
      • 1.2.2 電漿電視的開發
    • 1.3 液晶顯示器的發展與沿革
    • 1.4 無機發光二極體之發展
    • 1.5 小分子有機發光二極體之發展
      • 1.5.1 小尺寸SMOLED 的開發
      • 1.5.2 中大尺寸SMOLED 的開發
    • 1.6 高分子有機發光二極體之發展
    • 1.7 主動式有機發光二極體的優勢
      • 1.7.1 極致輕薄
      • 1.7.2 曲面可折疊
      • 1.7.3 流暢反應速度
      • 1.7.4 高動態範圍畫質
      • 1.7.5 護眼低藍光
  • 第2章 有機發光二極體應用與規格
    • 2.1 前言
    • 2.2 有機發光二極體應用
      • 2.2.1 手持式裝置與手機顯示器
      • 2.2.2 車用顯示器
      • 2.2.3 筆記型電腦顯示器
      • 2.2.4 多媒體應用顯示器與監視器
      • 2.2.5 航空電子顯示器
      • 2.2.6 雷達顯示器
      • 2.2.7 醫療用顯示器
      • 2.2.8 平面電視
      • 2.2.9 數位資訊顯示器
      • 2.2.10 頭戴式VR 與AR 顯示器
    • 2.3 面板解析度
      • 2.3.1 長寬比
      • 2.3.2 CIF 與QCIF
      • 2.3.3 VGA 與QVGA
      • 2.3.4 XGA 與SXGA
      • 2.3.5 QUXGA 與QUXGA-Wide
      • 2.3.6 HDTV
    • 2.4 直視型立體顯示設計
      • 2.4.1 視差屏障型
      • 2.4.2 柱狀透鏡型
      • 2.4.3 多重影像設計
    • 2.5 內嵌式感應器設計
      • 2.5.1 內嵌式觸控面板
      • 2.5.2 螢幕下相機
      • 2.5.3 螢幕下指紋
    • 2.6 綠色概念設計
      • 2.6.1 無鉛面板
      • 2.6.2 無汞面板
      • 2.6.3 無鉻面板
      • 2.6.4 省電設計
    • 2.7 綠色概念製造
      • 2.7.1 低二氧化碳排放
      • 2.7.2 低水資源消耗
      • 2.7.3 廢液回收處理
      • 2.7.4 銦金屬回收
      • 2.7.5 玻璃回收
  • 第3章 有機發光二極體顯示原理
    • 3.1 前言
    • 3.2 發光二極體顯示原理
    • 3.3 有機發光二極體顯示原理
      • 3.3.1 三元色發光原理
      • 3.3.2 白光發光原理
      • 3.3.3 量子點發光原理
    • 3.4 元件結構
      • 3.4.1 陽極層
      • 3.4.2 電洞注入層
      • 3.4.3 電洞傳輸層
      • 3.4.4 發光層
      • 3.4.5 雙發光層
      • 3.4.6 電子傳輸層
      • 3.4.7 陰極層
      • 3.4.8 堆疊串聯結構
    • 3.5 發光效率
      • 3.5.1 螢光發光
      • 3.5.2 磷光發光
    • 3.6 亮度加強
      • 3.6.1 對比度
      • 3.6.2 光加強結構
      • 3.6.3 微透鏡陣列
      • 3.6.4 透鏡製造方法
    • 3.7 色彩飽和度
    • 3.8 反應時間
      • 3.8.1 灰階對灰階時間
      • 3.8.2 動態影像反應時間
      • 3.8.3 影像殘留
  • 第4章 有機發光二極體全彩技術
    • 4.1 前言
    • 4.2 彩色化製造流程
    • 4.3 熱蒸鍍法
      • 4.3.1 真空熱蒸鍍架構
      • 4.3.2 點狀源與線狀源
      • 4.3.3 金屬遮罩定位
      • 4.3.4 金屬遮罩設計
      • 4.3.5 金屬遮罩精度
      • 4.3.6 遮罩清潔
    • 4.4 有機氣相沈積
    • 4.5 旋轉塗佈法
    • 4.6 噴墨印刷法
      • 4.6.1 噴墨頭設計
      • 4.6.2 噴墨準確度
      • 4.6.3 表面處理
    • 4.7 外在媒體變換法
      • 4.7.1 色轉換法
      • 4.7.2 RGB 彩色濾光片法
      • 4.7.3 RGBW 彩色濾光片法
      • 4.7.4 COA 架構
      • 4.7.5 黑色矩陣設計
    • 4.8 轉印法
      • 4.8.1 雷射感熱成像
      • 4.8.2 奈米壓印技術
  • 第5章 被動式矩陣背板技術
    • 5.1 前言
    • 5.2 被動式矩陣架構
      • 5.2.1 被動式面板限制
      • 5.2.2 有機發光二極體之整流比
    • 5.3 被動式SMOLED 製造流程
      • 5.3.1 負型光阻製程
      • 5.3.2 剝脫製程
      • 5.3.3 整合型分離體製程
    • 5.4 被動式LEP 製造流程
    • 5.5 被動式驅動系統
      • 5.5.1 灰階顯示
      • 5.5.2 預充電電路
      • 5.5.3 串音
      • 5.5.4 閃爍
      • 5.5.5 功率消耗
    • 5.6 驅動IC 封裝
      • 5.6-1 自動捲帶封裝
      • 5.6.2 軟膜覆晶封裝
      • 5.6.3 玻璃覆晶封裝
  • 第6章 主動式矩陣背板技術
    • 6.1 前言
    • 6.2 單晶矽電晶體
    • 6.3 低溫複晶矽薄膜電晶體
      • 6.3.1 線束型準分子雷射結晶
      • 6.3.2 循序性側向雷射結晶
      • 6.3.3 固態雷射結晶
      • 6.3.4 金屬誘發結晶型
      • 6.3.5 複合結晶型
      • 6.3.6 光罩縮減製程
    • 6.4 非晶矽薄膜電晶體
      • 6.4.1 光罩縮減製程
      • 6.4.2 半色調型光罩
      • 6.4.3 灰色調型光罩
      • 6.4.4 狹縫型光罩
      • 6.4.5 載子移動率
      • 6.4.6 微晶矽薄膜
      • 6.4.7 臨界電壓
      • 6.4.8 源極驅動電路縮減
      • 6.4.9 閘極驅動電路整合
    • 6.5 有機薄膜電晶體
      • 6.5.1 有機主動層
      • 6.5.2 電極結構
      • 6.5.3 接觸電阻
      • 6.5.4 導通電阻
      • 6.5.5 閘極絕緣層
      • 6.5.6 複合型閘極絕緣層
      • 6.5.7 絕緣層表面型態
    • 6.6 氧化銦鎵鋅薄膜電晶體
      • 6.6.1 IGZO 濺鍍
      • 6.6.2 IGZO TFT 結構
    • 6.7 低溫複晶氧化物薄膜電晶體
    • 6.8 畫素發光架構
      • 6.8.1 下部發光型畫素
      • 6.8.2 上部發光型畫素
      • 6.8.3 雙面發光型畫素
    • 6.9 低阻值導線
      • 6.9.1 鋁金屬
      • 6.9.2 銅與銀金屬
  • 第7章 有機發光二極體陽極製程
    • 7.1 前言
    • 7.2 陽極電極特性
    • 7.3 氧化銦錫
      • 7.3.1 成膜技術
      • 7.3.2 冷氧化銦錫
      • 7.3.3 薄膜導電性
      • 7.3.4 表面粗糙度
    • 7.4 氧化銦鋅
      • 7.4.1 成膜技術
      • 7.4.2 表面粗糙度
    • 7.5 氧化鋅
      • 7.5.1 成膜技術
      • 7.5.2 薄膜導電性
    • 7.6 堆疊型陽極
    • 7.7 反射型陽極
    • 7.8 微共振腔結構
      • 7.8.1 金屬鏡-金屬鏡型微共振腔
      • 7.8.2 金屬鏡-布拉格反射鏡型微共振腔
    • 7.9 陽極表面處理
      • 7.9.1 溼式與乾式處理
      • 7.9.2 底層表面形態
      • 7.9.3 基板平整性
  • 第8章 有機發光二極體陰極製程
    • 8.1 前言
    • 8.2 陰極電極特性
    • 8.3 單層型陰極
    • 8.4 合金型陰極
    • 8.5 多層型陰極
    • 8.6 半穿透金屬型陰極
    • 8.7 對比加強架構
      • 8.7.1 圓形偏光架構
      • 8.7.2 光學增亮膜
      • 8.7.3 內部光學干涉
      • 8.7.4 抗反射層
      • 8.7.5 整合式黑色矩陣結構
  • 第9章 主動式類比畫素設計
    • 9.1 前言
    • 9.2 畫素設計設定
      • 9.2.1 畫素間距
      • 9.2.2 畫素開口率
      • 9.2.3 RGB 畫素排列架構
      • 9.2.4 RGBW 畫素排列架構
    • 9.3 差異性衰減
      • 9.3.1 子畫素配置
      • 9.3.2 畫素驅動補償
      • 9.3.3 加瑪校正
    • 9.4 畫素驅動分類
      • 9.4.1 1T 簡易型畫素
    • 9.5 電壓定義型畫素
      • 9.5.1 2T-1C 畫素驅動
      • 9.5.2 修正型2T-1C 畫素驅動
      • 9.5.3 3T-1C 畫素驅動
      • 9.5.4 4T-2C 畫素驅動
    • 9.6 電流定義型畫素
      • 9.6.1 4T-1C 電流鏡畫素驅動
      • 9.6.2 4T-1C 電流複製畫素驅動
    • 9.7 畫素補償架構
      • 9.7.1 Demura 校正
      • 9.7.2 老化補償
  • 第10章 主動式數位畫素設計
    • 10.1 前言
    • 10.2 數位驅動設計
    • 10.3 面積比例灰階型
      • 10.3.1 畫框權重
      • 10.3.2 面積比例設計
    • 10.4 訊號時間比例灰階型
      • 10.4.1 顯示區間分離法
      • 10.4.2 顯示區間分離法畫素
      • 10.4.3 同步消除掃描法
      • 10.4.4 同步消除掃描法畫素
    • 10.5 時間面積混合比例灰階型
  • 第11章 有機發光二極體封裝技術
    • 11.1 前言
    • 11.2 畫素暗點
      • 11.2.1 壽命
      • 11.2.2 老化機制
    • 11.3 封裝規格需求
    • 11.4 外蓋封裝
      • 11.4.1 外蓋封裝製程
      • 11.4.2 外蓋材質
      • 11.4.3 外蓋封口膠
      • 11.4.4 乾燥劑
    • 11.5 單層薄膜封裝
      • 11.5.1 氧化矽膜封裝
      • 11.5.2 氮化矽膜封裝
      • 11.5.3 SiONx 單層膜封裝
      • 11.5.4 類鑽碳單層膜封裝
      • 11.5.5 其他單層膜封裝
    • 11.6 多層薄膜封裝
      • 11.6.1 氮化矽/氮化碳多層膜封裝
      • 11.6.2 氮化矽/氧化矽多層膜封裝
      • 11.6.3 混合多層膜封裝
      • 11.6.4 可撓曲封裝
  • 第12章 有機發光二極體技術藍圖
    • 12.1 平面顯示技術藍圖
      • 12.1.1 次世代基板尺寸
      • 12.1.2 次世代製造生產
    • 12.2 有機發光二極體顯示器的未來
    • 12.3 結語
  • 附錄A RPI 複晶矽薄膜電晶體模型參數
  • 附錄B RPI 非晶矽薄膜電晶體模型參數
  • 出版地 臺灣
  • 語言 繁體中文

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