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半導體製程概論
作者
:
出版日期
:
2023/06/09
閱讀格式
:
PDF
ISBN
:
9786263284579
1.深入淺出說明半導體元件物理和積體電路結構、原理及製程。
2.從矽導體之物理概念開始,一直到半導體結構、能帶作完整的解說,使讀者學習到全盤知識。
3.圖片清晰,使讀者一目瞭然更容易理解。
4.適用於大學、科大電子、電機系「半導體製程」或「半導體製程技術」課程或相關業界人士及有興趣之讀者。
全書分為五篇,第一篇(1~3章)探討半導體材料之基本特性,從矽半導體晶體結構開始,到半導體物理之物理概念與能帶做完整的解說。第二篇(4~9章)說明積體電路使用的基礎元件與先進奈米元件。第三篇(10~24章)說明積體電路的製程。第四篇(25~26章)說明積體電路的故障與檢測。第五篇(27~28章)說明積體電路製程潔淨控制與安全。
2.從矽導體之物理概念開始,一直到半導體結構、能帶作完整的解說,使讀者學習到全盤知識。
3.圖片清晰,使讀者一目瞭然更容易理解。
4.適用於大學、科大電子、電機系「半導體製程」或「半導體製程技術」課程或相關業界人士及有興趣之讀者。
全書分為五篇,第一篇(1~3章)探討半導體材料之基本特性,從矽半導體晶體結構開始,到半導體物理之物理概念與能帶做完整的解說。第二篇(4~9章)說明積體電路使用的基礎元件與先進奈米元件。第三篇(10~24章)說明積體電路的製程。第四篇(25~26章)說明積體電路的故障與檢測。第五篇(27~28章)說明積體電路製程潔淨控制與安全。
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前言 半導體與積體電路發展史
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0-1 半導體之緣起
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0-2 電晶體
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0-3 積體電路
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0-4 半導體製程
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第一篇 半導體材料與物理
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CH1 晶體結構與矽半導體物理特性
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1-1 原子模型與週期表
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1-2 晶體結構
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1-3 物質導電性
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1-4 本質矽,質量作用定律
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1-5 摻雜質,負型和正型
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CH2 半導體能帶與載子傳輸
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2-1 能帶
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2-2 電阻係數與薄片電阻
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2-3 載子傳輸
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CH3 化合物半導體晶體結構與物理特性
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3-1 化合物半導體
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3-2 砷化鎵晶體結構與能帶
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3-3 氮化鎵晶體結構與能帶
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3-4 碳化矽晶體結構與能帶
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3-5 摻雜質,負型和正型
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3-6 砷化鎵、氮化鎵、碳化矽與矽特性比較
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第二篇 半導體元件
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CH4 半導體基礎元件
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4-1 二極體
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4-2 雙載子電晶體
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4-3 金氧半場效電晶體
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4-4 互補型金氧半場效電晶體
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4-5 半導體記憶體
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4-6 電阻
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4-7 電容
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4-8 電感
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CH5 接面能帶圖與費米能階
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5-1 狀態密度
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5-2 本質半導體費米分布函數
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5-3 摻雜半導體費米分布函數
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5-4 接面能帶圖與費米能階
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CH6 積體電路製程與佈局
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6-1 雙載子電晶體製程技術
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6-2 金氧半場效電晶體製程技術
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6-3 電路與積體電路
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6-4 設計原則
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6-5 佈局
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CH7 半導體元件縮小化與先進奈米元件
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7-1 金氧半場效電晶體之縮小化
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7-2 短通道效應
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7-3 SOI 場效電晶體
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7-4 奈米鰭式場效電晶體
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7-5 三維積體電路
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CH8 高速與高功率元件
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8-1 砷化鎵金半場效電晶體
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8-2 砷化鎵高電子遷移率電晶體
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8-3 氮化鎵高電子遷移率電晶體
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8-4 碳化矽金氧半場效電晶體
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CH9 半導體光電元件
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9-1 發光二極體
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9-2 有機發光二極體
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9-3 雷射二極體
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9-4 光感測器
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9-5 太陽電池
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第三篇 積體電路製程與設備
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CH10 矽晶棒之生長
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10-1 原料配製
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10-2 矽晶棒生長
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10-3 晶體生長時摻雜質之分佈
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10-4 晶體缺陷
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CH11 矽晶圓之製作
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11-1 晶體方向
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11-2 晶圓方向、切割和拋光
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11-3 十二吋晶圓效益分析
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CH12 化合物半導體晶棒生長
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12-1 砷化鎵晶棒生長
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12-2 氮化鎵晶棒生長
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12-3 碳化矽晶棒生長
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CH13 矽磊晶生長
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13-1 磊晶膜
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13-2 矽磊晶生長
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13-3 矽磊晶膜生長程序
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CH14 矽磊晶系統
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14-1 矽磊晶系統
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14-2 矽磊晶生長系統之評估
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CH15 化合物半導體磊晶生長
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15-1 砷化鎵磊晶生長
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15-2 氮化鎵磊晶生長
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15-3 碳化矽磊晶生長
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CH16 矽氧化膜生長
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16-1 熱氧化爐
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16-2 矽氧化程序
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16-3 乾濕氧化與膜厚
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16-4 矽氧化膜厚度評估
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16-5 熱氧化時摻雜質之重行分佈
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CH17 矽氧化膜生長機制
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17-1 二氧化矽與氧化
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17-2 氧化機制
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17-3 超薄氧化層
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17-4 氧化膜品質評估
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17-5 氧化膜品質改進方法
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CH18 摻雜質之擴散植入
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18-1 擴散概念
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18-2 擴散過程
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18-3 擴散之分佈曲線
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CH19 摻雜質之離子佈植
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19-1 離子佈植
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19-2 退火
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19-3 離子佈植在CMOS 積體電路製程上的應用
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19-4 離子佈植製程實務
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CH20 微影技術
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20-1 微影蝕刻術
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20-2 光罩之製作
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20-3 光微影術
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20-4 解析增強微影術
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20-5 微影術之光源
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CH21 蝕刻技術
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21-1 濕蝕刻
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21-2 乾蝕刻
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CH22 化學氣相沉積
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22-1 化學氣相沉積概念
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22-2 化學氣相沉積流程
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22-3 低壓化學氣相沉積
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22-4 電漿化學氣相沉積
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22-5 光照化學氣相沉積
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22-6 原子層沉積
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22-7 液相沉積法
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CH23 金屬接觸與沉積
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23-1 金屬化之要求
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23-2 真空沉積
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23-3 沉積技術
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23-4 真空沉積程序
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23-5 合金/退火
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23-6 金屬矽化物
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23-7 銅製程技術
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CH24 積體電路封裝
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24-1 積體電路封裝
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24-2 封裝分類
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24-3 封裝流程
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24-4 三維封裝
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第四篇 積體電路故障與檢測
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CH25 可靠度與功能性檢測
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25-1 可靠度基本概念
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25-2 可靠度檢測
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25-3 故障模型
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25-4 電磁干擾
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25-5 靜電效應
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25-6 電性可靠度檢測
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25-7 功能性檢測
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CH26 材料特性檢測
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26-1 表面形態分析儀器
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26-2 晶體結構分析儀器
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26-3 組成分析儀器
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第五篇 製程潔淨控制與安全
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CH27 製程潔淨控制與安全(一)
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27-1 潔淨程序
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27-2 水
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27-3 空氣/無塵室
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27-4 人員
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27-5 化學藥品
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27-6 氣體
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CH28 製程潔淨控制與安全(二)
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28-1 高壓氣瓶
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28-2 壓力調節器
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28-3 吹淨
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28-4 洩漏偵測
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28-5 設備上應注意事項
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28-6 廢氣之排放
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28-7 緊急時應注意事項
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- 習題演練
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