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本研究之目的主要是希望透過專利分析,歸納全球專利技術強國之研發能量,規劃的主題包括專利趨勢分析、優勢技術分析、專利影響力分析、技術合作與技術組合分析等,以提供政府進行專利研發之策略參考。研究結果發現我國在美獲准專利具有不錯的表現,其專利的生產效率可被其他國家參考,尤其在半導體技術領域上,其研發活動能量超越其他國家。而在國際合作上,我國專利跨國技術合作的比例仍然偏低,最主要的合作發明國家為中國與美國。以長期的發展而言,探索各國的技術發展現況是重要的,而透過專利資訊衡量競爭情報,是一種實用且可行的方法。也因此本文利用專利計量學方法,透過USPTO與EPO以深入了解主要競爭國家在各技術領域上的發展趨勢,並提供客觀的評估機制。
- 中文摘要
- Abstract
- 執行摘要
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第一章 前言
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1.1 研究動機與目的
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1.2 報告書之定位與研究範疇
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1.3 研究流程
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1.4 章節說明
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第二章 主要國家專利趨勢分析
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2.1 主要國家在各大專利局之布局
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2.2 主要國家跨國申請專利分析
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2.3 主要國家專利權人生產力
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2.4 主要國家PCT專利申請趨勢
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2.5 主要國家專利影響力分析
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第三章 主要國家優勢技術領域動態分析
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3.1 主要國家在USPTO技術領域分布
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3.2 主要國家在EPO技術領域分布
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3.3 各國專利技術領域組合分析
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3.4 主要國家技術領域動態變化
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第四章 主要國家之技術跨國合作
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4.1 技術合作動態趨勢
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4.2 技術合作領域差異分析
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4.3 專利國際活躍度分析
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4.4 主要競爭國家合作團隊分析
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第五章 結論
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5.1 研究結論
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5.2 後續研究方向與建議
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- 參考文獻
- 附錄一縮寫字對照表
- 出版地 : 臺灣
- 語言 : 繁體中文
- DOI : 10.978.957619/1879
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